Cuno BetaPure CMP Capsule

Filtro 3M Betapure CMP Cápsula Series

3M ™ Betapure ™ CMP cápsulas de filtro, antes conocido como CUNO Optima CMP, son filtros de profundidad de alta capacidad optimizados para lodos y óxidos metálicos utilizados en planarización químico mecánico (CMP) aplicaciones.
Cápsulas Betapure CMP se componen de componentes todos de polipropileno y cuenta con un diseño multi-zona "gradedporosity" para el nivel óptimo de clasificación de partículas.
Esta construcción proporciona una mayor características de fl ujo, incluyendo una caída de presión baja para minimizar la esquila de la suspensión mientras que proporciona una vida útil superior.
La filtración de suspensiones CMP es un proceso difícil en comparación con la filtración de productos químicos de alta pureza utilizados en la fabricación electrónica. Filtración de alta pureza química se realiza normalmente con 0,2 micrones o más estrictos filtros de membrana que tienen una eliminación de partículas de corte afilado en el tamaño nominal de poro.
La mayoría de suspensiones CMP contiene un tamaño de partícula medio deseado que oscila 0,03 a 0,2 micras.
En consecuencia, el filtro que fue diseñado específicamente para la clarificación de las partículas de químicos de alta pureza despojaría a cabo las partículas deseados y afectar negativamente a las características de pulido de la lechada CMP.

Características y Beneficios

• Eliminación Superior de contaminantes gelatina dura y blanda, para Defectibilidad reducida y mejora de los rendimientos
• Alta capacidad de retención de contaminantes reduce el tiempo de inactividad y aumenta la eficacia total del equipo
• Las cápsulas se "emparejados" a la suspensión de proporcionar el nivel óptimo de rendimiento necesario para reducir drásticamente las partículas defecto que causa
• Proporciona una baja caída de presión reduciendo el potencial de cizallamiento l de la suspensión uid
• Extraíbles cápsula bajo, libre de adhesivos, aglutinantes y surfactantes
• Excelente compatibilidad química con lechadas de pH bajo y alto
• ISO sistema de gestión de calidad certiied
• Fabricado y doble embolsado en un ambiente limpio para proporcionar la limpieza aguas abajo superiores fuera del paquete
• Proporciona una calidad constante de la suspensión que permite la repetibilidad del proceso de aplanado
• instalación rápida
• Menor tiempo de inactividad
• Manejo reducido de productos químicos peligrosos

Condiciones de la operación

• Temperatura máxima de funcionamiento 40 ° C (104 ° F)
• Presión diferencial máxima 5.2 bar (75 psi)

Aplicaciones típicas

• Semiconductor
• almacenamiento de datos
• La transmisión de datos
• semiconductor compuesto

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